光電材料生產，加工，清洗， LCD液晶顯示屏，PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工作、FPC/PCB線路板，電路板，大規模，超大規模集成電路需用大量的高純水，超純水清洗半成品及成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，同時，對超純水處理工藝及產品簡易型，自動化程度，生產連續性，可持續性等提出了更加嚴格的要求。

純水設備，采用的是主要是反滲透膜技術。它的工作原理是對水施加一定的壓力，使水分子和離子態的礦物質元素通過反滲透膜，而溶解在水中的絕大部分無機鹽(包括重金屬)、有機物以及細菌、病毒等無法透過反滲透膜，從而使滲透過的純凈水和無法滲透過的濃縮水嚴格的分開;反滲透膜上的孔徑只有0.0001微米,而病毒的直徑一般有0.02-0.4微米,普通細菌的直徑有0.4-1微米。

超純水設備采用預處理、反滲透技術、混床、EDI裝置以及后級處理等方法，將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設備。 超純水設備又稱做：超純水器，超純水機，超純水儀，超純水系統，實驗室超純水器等。 超純水機所生產的超純水電阻率一般應大于10兆歐，10兆歐以上的水才叫超純水。一般超純水出水能達到18.25兆歐。

 

 

 

 

 

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